EUV-Lithografie (auch kurz EUVL) ist ein Fotolithografie-Verfahren, das elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 nm (91,82 eV) nutzt, sogenannte extrem ultraviolette Strahlung (englisch extreme ultra violet, EUV).Dies soll es ermöglichen, auch zukünftig die Strukturverkleinerung in der Halbleiterindustriefortzusetzen, um kleinere, effizientere, schnellere und günstigere integrierte Schaltkreiseherstellen zu können.

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  • EUV-Lithografie (auch kurz EUVL) ist ein Fotolithografie-Verfahren, das elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 nm (91,82 eV) nutzt, sogenannte extrem ultraviolette Strahlung (englisch extreme ultra violet, EUV).Dies soll es ermöglichen, auch zukünftig die Strukturverkleinerung in der Halbleiterindustriefortzusetzen, um kleinere, effizientere, schnellere und günstigere integrierte Schaltkreiseherstellen zu können. (de)
  • EUV-Lithografie (auch kurz EUVL) ist ein Fotolithografie-Verfahren, das elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 nm (91,82 eV) nutzt, sogenannte extrem ultraviolette Strahlung (englisch extreme ultra violet, EUV).Dies soll es ermöglichen, auch zukünftig die Strukturverkleinerung in der Halbleiterindustriefortzusetzen, um kleinere, effizientere, schnellere und günstigere integrierte Schaltkreiseherstellen zu können. (de)
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  • Extreme ultraviolet lithography: A review (de)
  • Strahlungsquellen für die EUV-Lithographie (de)
  • Extreme ultraviolet light sources for use in semiconductor lithography—state of the art and future development (de)
  • Extreme ultraviolet lithography: A review (de)
  • Strahlungsquellen für die EUV-Lithographie (de)
  • Extreme ultraviolet light sources for use in semiconductor lithography—state of the art and future development (de)
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  • EUV-Lithografie (de)
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