Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapour deposition, CVD), selten auch chemische Dampfphasenabscheidung, versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und Lichtwellenleitern eingesetzt werden.

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  • Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapour deposition, CVD), selten auch chemische Dampfphasenabscheidung, versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und Lichtwellenleitern eingesetzt werden. (de)
  • Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapour deposition, CVD), selten auch chemische Dampfphasenabscheidung, versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und Lichtwellenleitern eingesetzt werden. (de)
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  • 978-0-8155-1432-9
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  • Chemical vapour deposition of coatings (de)
  • Focused ion beam microscopy and micromachining (de)
  • Vapor Deposition (de)
  • From bunsen to VLSI: 150 years of growth in chemical vapor deposition technology (de)
  • Handbook of chemical vapor deposition (CVD): principles, technology, and applications (de)
  • Chemical vapour deposition of coatings (de)
  • Focused ion beam microscopy and micromachining (de)
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  • Hugh O. Pierson
  • K. L. Choy
  • M. Allendorf
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  • sehr ausführlicher Übersichtsartikel neuerer Zeit, in dem neben den einzelnen Verfahren auch Vor- und Nachteile der einzelnen Reaktortypen beschrieben werden
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  • MRS bulletin
  • Progress in Materials Science
  • The Electrochemical Society interface
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  • William Andrew
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  • Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapour deposition, CVD), selten auch chemische Dampfphasenabscheidung, versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und Lichtwellenleitern eingesetzt werden. (de)
  • Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapour deposition, CVD), selten auch chemische Dampfphasenabscheidung, versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und Lichtwellenleitern eingesetzt werden. (de)
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  • Chemische Gasphasenabscheidung (de)
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