Bei der Plasma-Immersions-Ionenimplantation handelt es sich um ein Vakuumverfahren zur meist großflächigen Implantation von Ionen in Festkörperoberflächen. Es ist daher eng verwandt mit der Ionenimplantation. Das wesentlichste Merkmal ist das direkte Einbringen der zu behandelnden Materialien in ein Plasma, daher der Begriff „Immersion“. Häufig werden für das Verfahren unterschiedliche synonyme Begriffe oder Abkürzungen verwendet, von denen einige im Folgenden aufgelistet sind:

Property Value
dbo:abstract
  • Bei der Plasma-Immersions-Ionenimplantation handelt es sich um ein Vakuumverfahren zur meist großflächigen Implantation von Ionen in Festkörperoberflächen. Es ist daher eng verwandt mit der Ionenimplantation. Das wesentlichste Merkmal ist das direkte Einbringen der zu behandelnden Materialien in ein Plasma, daher der Begriff „Immersion“. Häufig werden für das Verfahren unterschiedliche synonyme Begriffe oder Abkürzungen verwendet, von denen einige im Folgenden aufgelistet sind: * Plasma-Immersions-Ionenimplantation, kurz PIII, P3I oder PI³; Im Englischen spricht man von p-triple-i oder p-i-cube * Plasma-basierte Ionenimplantation, PBII * Plasmaionenimplantation, kurz PII oder PI² * engl. plasma ion immersion processing, PIIP * Wenn das Verfahren in Kombination mit einer gleichzeitigen Schichtabscheidung angewandt wird (siehe PVD und CVD), dann wird häufig ein „&D“ (engl. … and deposition) angehängt, also zum Beispiel PIII&D. (de)
  • Bei der Plasma-Immersions-Ionenimplantation handelt es sich um ein Vakuumverfahren zur meist großflächigen Implantation von Ionen in Festkörperoberflächen. Es ist daher eng verwandt mit der Ionenimplantation. Das wesentlichste Merkmal ist das direkte Einbringen der zu behandelnden Materialien in ein Plasma, daher der Begriff „Immersion“. Häufig werden für das Verfahren unterschiedliche synonyme Begriffe oder Abkürzungen verwendet, von denen einige im Folgenden aufgelistet sind: * Plasma-Immersions-Ionenimplantation, kurz PIII, P3I oder PI³; Im Englischen spricht man von p-triple-i oder p-i-cube * Plasma-basierte Ionenimplantation, PBII * Plasmaionenimplantation, kurz PII oder PI² * engl. plasma ion immersion processing, PIIP * Wenn das Verfahren in Kombination mit einer gleichzeitigen Schichtabscheidung angewandt wird (siehe PVD und CVD), dann wird häufig ein „&D“ (engl. … and deposition) angehängt, also zum Beispiel PIII&D. (de)
dbo:thumbnail
dbo:wikiPageExternalLink
dbo:wikiPageID
  • 4186316 (xsd:integer)
dbo:wikiPageRevisionID
  • 152130771 (xsd:integer)
dct:subject
rdfs:comment
  • Bei der Plasma-Immersions-Ionenimplantation handelt es sich um ein Vakuumverfahren zur meist großflächigen Implantation von Ionen in Festkörperoberflächen. Es ist daher eng verwandt mit der Ionenimplantation. Das wesentlichste Merkmal ist das direkte Einbringen der zu behandelnden Materialien in ein Plasma, daher der Begriff „Immersion“. Häufig werden für das Verfahren unterschiedliche synonyme Begriffe oder Abkürzungen verwendet, von denen einige im Folgenden aufgelistet sind: (de)
  • Bei der Plasma-Immersions-Ionenimplantation handelt es sich um ein Vakuumverfahren zur meist großflächigen Implantation von Ionen in Festkörperoberflächen. Es ist daher eng verwandt mit der Ionenimplantation. Das wesentlichste Merkmal ist das direkte Einbringen der zu behandelnden Materialien in ein Plasma, daher der Begriff „Immersion“. Häufig werden für das Verfahren unterschiedliche synonyme Begriffe oder Abkürzungen verwendet, von denen einige im Folgenden aufgelistet sind: (de)
rdfs:label
  • Plasma-Immersions-Ionenimplantation (de)
  • Plasma-Immersions-Ionenimplantation (de)
owl:sameAs
prov:wasDerivedFrom
foaf:depiction
foaf:isPrimaryTopicOf
is dbo:wikiPageRedirects of
is foaf:primaryTopic of