Die ICB-Technik (von englisch ionized cluster beam, ICB, auch ionized cluster beam deposition, ICBD) ist ein ionengestütztes physikalisches Gasphasenabscheidungsverfahren zur Herstellung dünner Schichten (Metalle, Dielektrika und Halbleitern) bei niedrigen Substrattemperaturen.

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  • Die ICB-Technik (von englisch ionized cluster beam, ICB, auch ionized cluster beam deposition, ICBD) ist ein ionengestütztes physikalisches Gasphasenabscheidungsverfahren zur Herstellung dünner Schichten (Metalle, Dielektrika und Halbleitern) bei niedrigen Substrattemperaturen. (de)
  • Die ICB-Technik (von englisch ionized cluster beam, ICB, auch ionized cluster beam deposition, ICBD) ist ein ionengestütztes physikalisches Gasphasenabscheidungsverfahren zur Herstellung dünner Schichten (Metalle, Dielektrika und Halbleitern) bei niedrigen Substrattemperaturen. (de)
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  • 081551168X
  • 0815512201
  • 9780815514428
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  • Ionized-cluster beam deposition and epitaxy (de)
  • Handbook of thin-film deposition processes and techniques: principles, methods, equipment and applications (de)
  • Handbook of plasma processing technology: fundamentals, etching, deposition, and surface interactions (de)
  • Ionized cluster beam (ICB) deposition and processes (de)
  • Ionized-cluster beam deposition and epitaxy (de)
  • Handbook of thin-film deposition processes and techniques: principles, methods, equipment and applications (de)
  • Handbook of plasma processing technology: fundamentals, etching, deposition, and surface interactions (de)
  • Ionized cluster beam (ICB) deposition and processes (de)
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  • Krishna Seshan
  • Toshinori Takagi
  • Toshinori Takagi
  • Stephen M. Rossnagel, J. J. Cuomo, William Dickson Westwood
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  • Pure and App. Chem
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  • William Andrew
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  • 781–794
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  • Die ICB-Technik (von englisch ionized cluster beam, ICB, auch ionized cluster beam deposition, ICBD) ist ein ionengestütztes physikalisches Gasphasenabscheidungsverfahren zur Herstellung dünner Schichten (Metalle, Dielektrika und Halbleitern) bei niedrigen Substrattemperaturen. (de)
  • Die ICB-Technik (von englisch ionized cluster beam, ICB, auch ionized cluster beam deposition, ICBD) ist ein ionengestütztes physikalisches Gasphasenabscheidungsverfahren zur Herstellung dünner Schichten (Metalle, Dielektrika und Halbleitern) bei niedrigen Substrattemperaturen. (de)
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  • ICB-Technik (de)
  • ICB-Technik (de)
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