. . "Das Hochenergieimpulsmagnetronsputtern (englisch high power impulse magnetron sputtering, HiPIMS, oder high power pulsed magnetron sputtering, HPPMS) ist ein spezielles Magnetronsputterverfahren zur Abscheidung von D\u00FCnnschichten."@de . . . . . "6758978"^^ . . "Hochleistungsimpulsmagnetronsputtern"@de . . . . "Das Hochenergieimpulsmagnetronsputtern (englisch high power impulse magnetron sputtering, HiPIMS, oder high power pulsed magnetron sputtering, HPPMS) ist ein spezielles Magnetronsputterverfahren zur Abscheidung von D\u00FCnnschichten. HiPIMS verwendet sehr hohe Target-Leistungsdichten von einigen kW\u00B7cm\u22122 in kurzen Pulsen von einigen zehn Mikrosekunden bei geringem Tastverh\u00E4ltnis (Ein-Aus-Verh\u00E4ltnis) von kleiner als 10 %. Ein charakterisierendes Merkmal des HiPIMS ist der hohe Ionisationsgrad des gesputterten Spendermaterials und die hohe Rate der molekularen Gasdissoziation. Beim herk\u00F6mmlichen DC-Sputterverfahren kann eine h\u00F6here Ionisation des abgeschiedenen Targetmaterials durch das Anheben der Kathodenleistung erzielt werden. Grenzen ergeben sich dabei durch die st\u00E4rkere thermische Belastung der Kathoden und der zu beschichtenden Substrate. An diesem Punkt setzt HiPIMS an: Da die Pulse nur f\u00FCr eine sehr kurze Zeit auf das Targetmaterial wirken und sich daran eine relativ lange \u201EAus-Zeit\u201C anschlie\u00DFt, ergeben sich niedrige durchschnittliche Kathodenleistungen (1\u201310 kW). So kann das Targetmaterial in den Aus-Zeiten abk\u00FChlen und die Prozessstabilit\u00E4t ist gegeben."@de . . . "148995688"^^ . . . .